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高度産業科学実研究所
極端紫外線リソグラフィ研究開発センター
:
(English)
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Staff紹介
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研究紹介
・NewSUBARUビームライン紹介(ニュースバル放射光施設へ移動します)
BL03
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BL09
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BL10
専任staff:
教授・センター長: 渡邊 健夫
研究テーマ: 次世代半導体用微細加工技術開発および
放射光を用いたソフトマテリアルズの構造および物性評価
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Reserch map
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産学連携研究研究シーズ2020
准教授: 原田 哲男
研究テーマ: 放射光ナノ計測と光応用
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Reserch map
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産学連携研究研究シーズ2020
助教: 山川 進二
研究テーマ: 次世代半導体用材料の合成と放射光を用いた物性解析
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Reserch map
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産学連携研究研究シーズ2020
秘書:
仙波 彩子
協力staff:
客員教授: 工藤 宏人(関西大学教授)
客員教授: 小池 雅人(量子科学技術研究開発機構)
客員教授: 佐々木茂美
客員研究員:山田 素行
(敬称略順不同)
研究分野:
1, 概要ポスター
2, 極端紫外線リソグラフィ技術開発
・EUVレジスト評価系およびレジスト材料の開発
感度評価系として、BL03においてMo/Si多層膜を用いた7回反射系を構築している。
Novel Evaluation System for Extreme Ultraviolet Lithography Resist in NewSUBARU(2005)
Beyond-EUV照射系をBL10に構築している。
Beyond EUV measurement at NewSUBARU synchrotron light facility(2021)
BL09に構築した干渉露光系により、1X nmHPパタン評価が可能。
Development of Transmission Grating for EUV Interference Lithography of 1X nm HP(2015)
LWRの抑制を指向したPAG-バウンド型レジストの開発
・EUVマスク用欠陥検査技術の開発
・EUV光源用大型ミラー評価
3, X線イメージセンサー開発
4, 新規材料分析系の開発
5, 量子半導体デバイス開発に向けた基礎研究
(随時更新)
研究設備:
高度研
・クラス10クリーンルーム
・電子線リソグラフィ装置 エリオニクスELS-7500
・光干渉式膜厚測定計 TohoSpec3100
・自動接触角計 KRUSS DSA30
・ドライエッチング装置
・GPC Waters
・LC-MS Waters
・TGA 島津TGA-50
・DSC 島津DSC-60 plus
・基本的な有機合成実験設備一式
NewSUBARU
・BL-03 / 09 / 10
・クラス100クリーンルーム
・FE-SEM(断面SEM) 日立S-4500
・CD-SEM 日立S-8840
・イオンスパッタ 日立E-1030
・光干渉式膜厚測定計 NanoSpec6100
・スピンコーター ミカサ
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兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所
〒678-1205
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お問い合せ先
TEL:0791-58-0249
FAX:0791-58-0242