兵庫県立大学
高度産業科学技術研究所 兵庫県立大学 UNIVERSITY OF HYOGO
ニュースバルのご紹介
高度産業科学技術研究所詳細
EUVリソグラフィー研究開発センター
LIGAプロセス研究開発センター
合同会社シンクロトロンアナリシスLLC
スタッフ
設置目的 沿革 組織 交通アクセス リンク
現在位置:TOPページ >> 光応用・先端技術大講座 >> 放射光ナノ工学

高度産業科学実研究所
極端紫外線リソグラフィ研究開発センター
(English)

Staff紹介
研究紹介
・NewSUBARUビームライン紹介(ニュースバル放射光施設へ移動します)
  BL03 /   BL09 /   BL10

専任staff:
教授・センター長:  渡邊 健夫
研究テーマ: 次世代半導体用微細加工技術開発および
       放射光を用いたソフトマテリアルズの構造および物性評価
Reserch map
産学連携研究研究シーズ2020

准教授: 原田 哲男
研究テーマ: 放射光ナノ計測と光応用
Reserch map
産学連携研究研究シーズ2020

助教:  山川 進二
研究テーマ: 次世代半導体用材料の合成と放射光を用いた物性解析
Reserch map
産学連携研究研究シーズ2020

秘書:

仙波 彩子

協力staff:

客員教授: 工藤 宏人(関西大学教授)
客員教授: 小池 雅人(量子科学技術研究開発機構)
客員教授: 佐々木茂美
客員研究員:山田 素行
(敬称略順不同)



研究分野:
1, 概要ポスター

2, 極端紫外線リソグラフィ技術開発
・EUVレジスト評価系およびレジスト材料の開発
 感度評価系として、BL03においてMo/Si多層膜を用いた7回反射系を構築している。 Novel Evaluation System for Extreme Ultraviolet Lithography Resist in NewSUBARU(2005)
 Beyond-EUV照射系をBL10に構築している。Beyond EUV measurement at NewSUBARU synchrotron light facility(2021)
 BL09に構築した干渉露光系により、1X nmHPパタン評価が可能。Development of Transmission Grating for EUV Interference Lithography of 1X nm HP(2015)
 LWRの抑制を指向したPAG-バウンド型レジストの開発  

・EUVマスク用欠陥検査技術の開発
・EUV光源用大型ミラー評価
3, X線イメージセンサー開発
4, 新規材料分析系の開発
5, 量子半導体デバイス開発に向けた基礎研究
(随時更新)



研究設備:
高度研
・クラス10クリーンルーム
・電子線リソグラフィ装置 エリオニクスELS-7500
・光干渉式膜厚測定計 TohoSpec3100
・自動接触角計 KRUSS DSA30
・ドライエッチング装置
・GPC Waters
・LC-MS Waters
・TGA 島津TGA-50
・DSC 島津DSC-60 plus
・基本的な有機合成実験設備一式

NewSUBARU
・BL-03 / 09 / 10
・クラス100クリーンルーム
・FE-SEM(断面SEM) 日立S-4500
・CD-SEM 日立S-8840
・イオンスパッタ 日立E-1030
・光干渉式膜厚測定計 NanoSpec6100
・スピンコーター ミカサ


▲ページの先頭にもどる

(c) UNIVERSITY OF HYOGO All rights reserved.
 兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所
 〒678-1205
 兵庫県赤穂郡上郡町光都3丁目1番2号 兵庫県立先端科学技術支援センター内
お問い合せ先
TEL:0791-58-0249
FAX:0791-58-0242