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・Staff紹介 ・研究紹介 ・NewSUBARUビームライン紹介（ニュースバル放射光施設へ移動します） BL03 / BL09 / BL10 専任staff： 教授・センター長： 原田 哲男 研究テーマ： 放射光ナノ計測と光応用 ・Reserch map 助教： 山川 進二 研究テーマ： 次世代半導体用材料の合成と放射光を用いた物性解析 ・Reserch map 秘書： 三宅（秘書） 山根（技術補佐員） 協力staff： 高度研教授： 鈴木 哲 高度研教授： 大河内 拓雄 （敬称略順不同） 研究分野： 1, 概要ポスター
2, 極端紫外線リソグラフィ技術開発 ・EUVレジスト評価系およびレジスト材料の開発 感度評価系として、BL03においてMo/Si多層膜を用いた7回反射系を構築している。 Novel Evaluation System for Extreme Ultraviolet Lithography Resist in NewSUBARU(2005) Beyond-EUV照射系をBL10に構築している。Beyond EUV measurement at NewSUBARU synchrotron light facility(2021) BL09に構築した干渉露光系により、1X nmHPパタン評価が可能。Development of Transmission Grating for EUV Interference Lithography of 1X nm HP(2015) LWRの抑制を指向したPAG-バウンド型レジストの開発 ・EUVマスク用欠陥検査技術の開発 ・EUV光源用大型ミラー評価 3, X線イメージセンサー開発 4, 新規材料分析系の開発 5, 量子半導体デバイス開発に向けた基礎研究 （随時更新） 研究設備： 高度研 ・クラス10クリーンルーム ・電子線リソグラフィ装置 エリオニクスELS-7500 ・光干渉式膜厚測定計 TohoSpec3100 ・自動接触角計 KRUSS DSA30 ・ドライエッチング装置 ・GPC Waters ・LC-MS Waters ・TGA 島津TGA-50 ・DSC 島津DSC-60 plus ・基本的な有機合成実験設備一式 NewSUBARU ・BL-03 / 09 / 10 ・クラス100クリーンルーム ・FE-SEM(断面SEM) 日立S-4500 ・CD-SEM 日立S-8840 ・イオンスパッタ 日立E-1030 ・光干渉式膜厚測定計 NanoSpec6100 ・スピンコーター ミカサ
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