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・Staff紹介 ・研究紹介 ・研究設備 NewSUBARUビームライン紹介（ニュースバル放射光施設へ移動します） BL03 / BL09 / BL10 ・受賞 専任staff： 教授： 原田 哲男 研究テーマ： 放射光ナノ計測と光応用 ・Reserch map ・兵庫県立大学工学部 ・産学連携研究研究シーズ2021 助教： 山川 進二 研究テーマ： 半導体リソグラフィー用次世代レジスト材料の開発（EUV・BEUV） ・Reserch map ・兵庫県立大学工学部 ・産学連携研究研究シーズ2021 秘書： 三宅（秘書） 山根（技術補佐員） 学生：2024年現在 Ｍ２：４名 Ｍ１：３名 Ｂ４：３名 研究分野： 1, 概要ポスター
2, 極端紫外線リソグラフィ技術開発 ・世界初のEUV大面積露光装置の開発 2001年に、世界に先駆けて大面積露光可能なEUV露光装置(ETS-1)を開発した。この成果は後のASML製EUV露光機の開発へと繋がった。 Fine Pattern Replication Using ETS-1 Three-Aspherical Mirror Imaging System (2002) ・EUVレジスト評価系およびレジスト材料の開発 感度評価系として、BL03においてMo/Si多層膜を用いた7回反射系を構築した。アップグレードしながら、2023年現在も感度評価実験を実施している。 Novel Evaluation System for Extreme Ultraviolet Lithography Resist in NewSUBARU (2005) BL09にEUV干渉露光系を構築した。これにより、1X nmHPまでのレジストのパタン評価が可能である。随時アップグレードを実施している。 Development of Transmission Grating for EUV Interference Lithography of 1X nm HP (2015) Present Status of EUV Interference Lithography at NewSUBARU (2023) LWRの抑制を指向したPAG-バウンド型レジストの評価を実施した。PAGをポリマー構造中に持たせたPAGバウンドレジストはLWRの抑制に効果的であり、レジスト設計の方針の１つとなった。 CA Resist with Side Chain PAG Group for EUV Resist (2006) ・EUVマスク用欠陥検査技術の開発 EUVマスク用欠陥検査技術として、BL03にコヒーレントEUV光を用いた散乱計(CSM)を構築した。 Development of Coherent Extreme-Ultraviolet Scatterometry Microscope with High-Order Harmonic Generation Source for Extreme-Ultraviolet Mask Inspection and Metrology (2012) ・EUV光源用大型ミラー評価用大型反射率計の構築 2600 mm×2900 mmの大型反射率計をBL10bラインに構築した。EUV露光装置に使われる800 mmコレクターミラーの反射率測定を実施し、その反射強度分布を評価した。 Extreme-ultraviolet collector mirror measurement using large reflectometer at NewSUBARU synchrotron facility (2016) ・水素ガス導入可能なハイパワーEUV光照射チャンバーの構築 BL09に70 Paまでの水素ガス導入可能なチャンバーを構築した。水素ガス雰囲気下、EUV光照射によってMo/Si多層膜ミラー表面の反射率が回復する挙動が観測された。 Hydrogen damage and cleaning evaluation of Mo/Si multilayer using high-power EUV irradiation tool (2021) 3, 新規材料分析系および材料の開発 BL10 Resonant Soft X-ray Scattering（軟X線共鳴散乱法）(2020) Reflection-mode Resonant Soft X-ray Scattering（反射型軟X線共鳴散乱法）(2023) Resonant Soft X-ray Reflectivity（軟X線共鳴反射率法）(2019) Reflection Type Soft X-ray Projection Microscope（反射型軟X線投影顕微鏡）(2023) 4, 次世代EUV技術開発 次世代EUV技術の１つであるBeyond-EUV照射系をBL10に構築した。Beyond-EUVは波長がEUV光の半分程度の波長であり、理論的にはEUVより微細なパタン形成が可能となる。 Beyond EUV measurement at NewSUBARU synchrotron light facility (2021) 5, X線イメージセンサー開発 90 - 1000 eVの領域全てで量子効率90%以上の高感度X線CMOSイメージセンサーを開発した。 High-exposure-durability, high-quantum-efficiency (>90%) backside-illuminated soft-X-ray CMOS sensor (2020) （随時更新） 研究設備： 高度研 ・クラス10クリーンルーム ・電子線リソグラフィ装置 エリオニクスELS-7500 ・自動接触角計 KRUSS DSA30 ・ドライエッチング装置 ・GPC Waters Alliance ・LC-MS Waters Alliance ・ASAP-MS Waters RADIAN ・TGA 島津 TGA-50 ・DSC 島津 DSC-60 plus ・基本的な有機合成実験設備一式 NewSUBARU ・BL-03 (EUVフラッド露光、アウトガス測定) ・BL-09 (EUV干渉露光、ハイパワーEUV照射) ・BL-10 (軟X線反射率、吸収分光、散乱測定) ・クラス100クリーンルーム ・FE-SEM(断面SEM) 日立 S-4500 ・CD-SEM(測長SEM) 日立 S-8840 ・イオンスパッタ 日立 E-1030 ・光干渉式膜厚測定計 ナノメトリクス NanoSpec6100 ・光干渉式膜厚測定計 東朋テクノロジー TohoSpec3100 ・光干渉式膜厚測定計 大塚電子 OPTM ・スピンコーター ミカサ 受賞： 20240424:M2 藤本君が国際会議Photomask Japan 2024 において”Best Academic Poster Presentation賞”を受賞しました。 20240303:M2 中本君が姫路工業倶楽部賞にて優秀賞を受賞しました。 20230629:M2 中本君が国際会議ICPST-40にてThe Photopolymer Science and Technology Award, the Best Paper Award2022を受賞しました。 20230313:B4 藤本君がニュースバルシンポジウム2023にてポスター賞を受賞しました。 20230228:M2 川上君が大学院工学研究科、修士論文審査会2022にて優秀プレゼンテーション賞を受賞しました。
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