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高度産業科学技術研究所 兵庫県立大学 UNIVERSITY OF HYOGO
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放射光ナノ工学分野(English)       last update: 20220831

Staff紹介
研究紹介
研究設備
 NewSUBARUビームライン紹介(ニュースバル放射光施設へ移動します)
 BL03 /  BL09 /  BL10

専任staff:
教授:  渡邊 健夫
研究テーマ: 次世代半導体用微細加工技術開発および
       放射光を用いたソフトマテリアルズの構造および物性評価
Reserch map
研究者データベース
兵庫県立大学工学部
産学連携研究研究シーズ2021

准教授: 原田 哲男
研究テーマ: 放射光ナノ計測と光応用
Reserch map
研究者データベース
兵庫県立大学工学部
産学連携研究研究シーズ2021

助教:  山川 進二
研究テーマ: 次世代半導体用材料の合成と放射光を用いた物性解析
Reserch map
・兵庫県立大学工学部
産学連携研究研究シーズ2021

秘書:

仙波 彩子

学生:2022年現在

M2:1名
M1:2名
B4:4名

協力staff:

客員教授: 工藤 宏人(関西大学教授)
客員教授: 小池 雅人(量子科学技術研究開発機構)
客員教授: 佐々木茂美
客員研究員:山田 素行
(敬称略順不同)



研究分野:
1, 概要ポスター

2, 極端紫外線リソグラフィ技術開発
・EUVレジスト評価系およびレジスト材料の開発
 感度評価系として、BL03においてMo/Si多層膜を用いた7回反射系を構築している。 Novel Evaluation System for Extreme Ultraviolet Lithography Resist in NewSUBARU(2005)
 Beyond-EUV照射系をBL10に構築している。Beyond EUV measurement at NewSUBARU synchrotron light facility(2021)
 BL09に構築した干渉露光系により、1X nmHPパタン評価が可能。Development of Transmission Grating for EUV Interference Lithography of 1X nm HP(2015)
 LWRの抑制を指向したPAG-バウンド型レジストの開発  

・EUVマスク用欠陥検査技術の開発
・EUV光源用大型ミラー評価
3, X線イメージセンサー開発
4, 新規材料分析系の開発
5, 量子半導体デバイス開発に向けた基礎研究
(随時更新)



研究設備:
高度研
・クラス10クリーンルーム
電子線リソグラフィ装置 エリオニクスELS-7500
・光干渉式膜厚測定計 TohoSpec3100
・自動接触角計 KRUSS DSA30
・ドライエッチング装置
・GPC Waters
・LC-MS Waters
・TGA 島津TGA-50
・DSC 島津DSC-60 plus
・基本的な有機合成実験設備一式

NewSUBARU
・BL-03 / 09 / 10
・クラス100クリーンルーム
・FE-SEM(断面SEM) 日立S-4500
・CD-SEM 日立S-8840
・イオンスパッタ 日立E-1030
・光干渉式膜厚測定計 NanoSpec6100
・スピンコーター ミカサ


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