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高度産業科学技術研究所 兵庫県立大学 UNIVERSITY OF HYOGO
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放射光ナノ工学分野       last update: 20240401

Staff紹介
研究紹介
研究設備
 NewSUBARUビームライン紹介(ニュースバル放射光施設へ移動します)
 BL03 /  BL09 /  BL10
受賞


専任staff:

教授: 原田 哲男
研究テーマ: 放射光ナノ計測と光応用
Reserch map
兵庫県立大学工学部
産学連携研究研究シーズ2021

助教:  山川 進二
研究テーマ: 次世代半導体用材料の合成と放射光を用いた物性解析
Reserch map
兵庫県立大学工学部
産学連携研究研究シーズ2021


秘書:

三宅(秘書)
山根(技術補佐員)


学生:2024年現在

M2:4名
M1:3名
B4:3名




研究分野:
1, 概要ポスター

2, 極端紫外線リソグラフィ技術開発
・世界初のEUV大面積露光装置の開発
 2001年に、世界に先駆けて大面積露光可能なEUV露光装置(ETS-1)を開発した。この成果は後のASML製EUV露光機の開発へと繋がった。 Fine Pattern Replication Using ETS-1 Three-Aspherical Mirror Imaging System(2002)


・EUVレジスト評価系およびレジスト材料の開発
 感度評価系として、BL03においてMo/Si多層膜を用いた7回反射系を構築した。アップグレードしながら、2023年現在も感度評価実験を実施している。 Novel Evaluation System for Extreme Ultraviolet Lithography Resist in NewSUBARU(2005)
 BL09にEUV干渉露光系を構築した。これにより、1X nmHPまでのレジストのパタン評価が可能である。 Development of Transmission Grating for EUV Interference Lithography of 1X nm HP(2015)
 LWRの抑制を指向したPAG-バウンド型レジストの評価を実施した。PAGをポリマー構造中に持たせたPAGバウンドレジストはLWRの抑制に効果的であり、レジスト設計の方針の1つとなった。 CA Resist with Side Chain PAG Group for EUV Resist(2006)


・EUVマスク用欠陥検査技術の開発
 EUVマスク用欠陥検査技術として、BL03にコヒーレントEUV光を用いた散乱計(CSM)を構築した。 Development of Coherent Extreme-Ultraviolet Scatterometry Microscope with High-Order Harmonic Generation Source for Extreme-Ultraviolet Mask Inspection and Metrology(2012)


・EUV光源用大型ミラー評価用大型反射率計の構築
 2600 mm×2900 mmの大型反射率計をBL10bラインに構築した。EUV露光装置に使われる800 mmコレクターミラーの反射率測定を実施し、その反射強度分布を評価した。 Extreme-ultraviolet collector mirror measurement using large reflectometer at NewSUBARU synchrotron facility(2016)


・水素ガス導入可能なハイパワーEUV光照射チャンバーの構築
 BL09に70 Paまでの水素ガス導入可能なチャンバーを構築した。水素ガス雰囲気下、EUV光照射によってMo/Si多層膜ミラー表面の反射率が回復する挙動が観測された。 Hydrogen damage and cleaning evaluation of Mo/Si multilayer using high-power EUV irradiation tool(2021)

3, 新規材料分析系および材料の開発

4, 次世代EUV技術開発
 次世代EUV技術の1つであるBeyond-EUV照射系をBL10に構築した。Beyond-EUVは波長がEUV光の半分程度の波長であり、理論的にはEUVより微細なパタン形成が可能となる。 Beyond EUV measurement at NewSUBARU synchrotron light facility(2021)

5, X線イメージセンサー開発
6, 量子半導体デバイス開発に向けた基礎研究
(随時更新)



研究設備:
高度研
・クラス10クリーンルーム
電子線リソグラフィ装置 エリオニクスELS-7500
・光干渉式膜厚測定計 東朋テクノロジー TohoSpec3100
・自動接触角計 KRUSS DSA30
・ドライエッチング装置 
・GPC Waters Alliance
・LC-MS Waters Alliance
・ASAP-MS Waters RADIAN
・TGA 島津 TGA-50
・DSC 島津 DSC-60 plus
・基本的な有機合成実験設備一式

NewSUBARU
・BL-03 (EUVフラッド露光、アウトガス測定)
・BL-09 (EUV干渉露光、ハイパワーEUV照射)
・BL-10 (軟X線反射率、吸収分光、散乱測定)
・クラス100クリーンルーム
・FE-SEM(断面SEM) 日立 S-4500
・CD-SEM(測長SEM) 日立 S-8840
・イオンスパッタ 日立 E-1030
・光干渉式膜厚測定計 ナノメトリクス NanoSpec6100
・光干渉式膜厚測定計 大塚電子 OPTM
・スピンコーター ミカサ




受賞:
20240424:M2 藤本君が国際会議Photomask Japan 2024 において”Best Academic Poster Presentation賞”を受賞しました。
20240303:M2 中本君が姫路工業倶楽部賞にて優秀賞を受賞しました。
20230629:M2 中本君が国際会議ICPST-40にてThe Photopolymer Science and Technology Award, the Best Paper Award2022を受賞しました。
20230313:B4 藤本君がニュースバルシンポジウム2023にてポスター賞を受賞しました。
20230228:M2 川上君が大学院工学研究科、修士論文審査会2022にて優秀プレゼンテーション賞を受賞しました。

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