EUVリソグラフィー(EUVL)はフルフィールド露光装置を使用したデバイス試作が本格化し、実用化が近づきつつある。利用するEUVレジストとしては、露光装置光学系やマスクへのコンタミネーション制御の観点から低アウトガス化が大きな課題である。EUV光(λ=13.5nm/92eV)のエネルギーは物質の光イオン化エネルギーを超えているため、レジンの吸光度はその分子構造にはほとんど依存せずその構成元素数と密度に依存するため、様々なレジン材料が適用可能となる。従来からのポリハイドロキシスチレン、アクリレートのほか新規低分子レジンが提案されている。SeleteはニュースバルのビームラインBL09長尺アンジュレータ光を利用して量産露光機のEUV光照度(>400mW/cm2)に近い条件でのアウトガス評価を実施した。EUVを照射したレジストからのアウトガスによる圧力上昇を測定し、この差圧からターボ分子ポンプの排気速度を考慮してアウトガス速度が評価できる。ニュースバルにおけるEUVL開発への寄与が一層期待される。


「EUVレジストの開発―長尺アンジュレータBL09によるレジストアウトガス評価を中心に―」pdf (247KB)