EUVを反射させる多層膜を有するEUVマスクに固有であり、かつEUV光のみで観察可能な、2種類の反射多層膜構造欠陥を、EUV顕微鏡を用いて観察した。まず、幅 160μm 高さ 7μmのプログラム位相欠陥を形成した多層膜マスクブランクの観察実験を行い、位相欠陥部分観察像の光強度低下部分として明瞭に識別することに成功した。また、吸収体パターンが形成されマスクが攻勢された段階で、15kVのGaイオンFIBで局所的な構造欠陥をつくり、その様相を反射率の変化として捉えることにも成功した。EUV顕微鏡の観察像は投影露光装置を介してウェハ上に転写されるEUVマスクパターン投影像光強度分布とほぼ同等なので、EUVマスク固有の様々な欠陥を直接的に検知できる有力な手段であることを確認した。

「EUV顕微鏡を用いたEUVマスクの多層膜欠陥観察」pdf (463KB)