兵庫県立大学大学院工学研究科材料・放射光工学専攻博士前期課程(高度研の渡邊研配属)2年生の橋本 拓 君が2016年4/月6日〜4月8日に開催された国際会議Photomask Japan 2016にてBest Academic Poster Awardを受賞しました。
　Photomask Japanは半導体回路の原版であるフォトマスク開発に携わる企業および要素技術の開発を進める大学や国公立の研究所が一同に集まり成果を発表する国際会議です。その中で、Academia Poster Sessionの全13件の発表の中から受賞しました。
　高度研の渡邊研の橋本君は放射光施設ニュースバルにおいて、コヒーレントEUV光を利用したフォトマスク欠陥観察のための顕微鏡を開発しています。本会議では、実用において重要な実際のフォトマスク上の微小欠陥の観察に成功したことが評価され受賞に至りました。これにより、EUVリソグラフィーの実用化に向けての研究がさらに進展することが期待されています。