その他(Others)

競争的資金の導入状況
1. 平成11〜13年度科研費、基盤研究C
「薄膜堆積法によるX線光学素子用非球面形状の創製」
2. 平成12年度姫路工業大学特別調整研究費
「イオン化セルを用いた放射光分光器の性能評価」
3.平成14年度(財)ひょうご科学技術協会 研究者海外派遣助成
「光科学技術および機器に関する国際シンポジウム研究発表」
4. 平成15〜17年度、NEDO基盤技術研究促進事業再委託研究
「計測用ビームラインの性能向上」
5. 平成15〜18年度、極端紫外線露光システム技術開発機構 委託研究
「ピンホールコンタミネーション低減の研究」
6. 平成15〜18年度、NEDO次世代半導体デバイスプロセス等基盤技術プログラム 
「極端紫外線(EUV)露光システムの基盤技術開発」 再委託研究
「コンタミ付着防止機構の開発」
7.平成18年度 極端紫外線露光システム技術開発機構 委託研究(継続研究)
「計測用ビームラインの性能向上」
8.平成20年度一般学術研究助成 (財)ひょうご科学技術協会
「高輝度軟X線光源を用いた発光分光装置の開発とその応用」

9.平成26〜29年度科研費、基板研究(C)

「ワイドギャップ半導体のプラズマエッチングプロセスにおけるUV照射効果の解明」

10.平成30年度兵庫県先端技術研究事業(COEプログラム)研究

「原子状水素による還元反応を利用したオンサイト表面洗浄法の開発」

 

教育および地域貢献

1. 市民講座等
1. 2000年度 姫路工業大学特別公開講座 講師
「放射光科学と生命」
2. 平成13年度 姫路工業大学高大連携授業 講師
「虹のはなし」   

3.2005年7月 SPring-8 夏の学校、ニュースバル実習 講師

「炭素化合物の軟X線吸収スペクトル測定」
4.2006年度 はりま産学交流会『兵庫県立大学・研究発表会』 講師
「ニュースバルを用いた分析研究の展開」

5.2014年7月 SPring-8 夏の学校、ニュースバル実習 講師

「炭素を含む物質の軟X線吸収スペクトル測定 」

6.2015年6月  兵庫県立大学附属中学校 中高大連携授業

「虹のはなし」

7.2015年10月 相生高校進学ガイダンス 講師

「工学とは何か」

8.2015年10月 姫路市シニアオープンカレッジ 講師

「放射光が拓く新物質科学」

9.2016年3月 第2回計算科学連携センターセミナー 講師

「ニュースバルBL-09Aにおける軟X線分光実験とその解析」

10.2016年6月 第79回無機薄膜研究会 講演

「放射光を用いた軽元素薄膜の評価」

11.2016年9月 第3回 放射光産業利用支援講座 講師

「ニュースバルで何が見える?」

12.2017年2月 JSTオープンイノベーションフェア WEST2017 講師

「軟X線放射光研究から生み出される最先端産業応用技術」

 

2. その他
平成9年5月 第1種放射線取扱主任者免状取得
平成10〜12年(財)高輝度光科学研究センター(JASRI)外来研究員
大型放射光施設(ニュースバル)放射線管理区域責任者
平成10年〜現在 大型放射光施設(ニュースバル) X線作業主任者
平成12年度〜  姫路工業大学播磨科学公園都市地区 放射線取扱主任者

 平成 9年度 兵庫県子ども科学館(仮称)ワーキンググループ委員
平成13年度 兵庫県子ども科学館(仮称)に関する検討委員会委員
平成10〜12年度地域研究開発促進拠点支援事業コーディネート会議委員
平成13年度〜現在 西はりま天文台公園運営協議会運営委員

 

特許(平成5年以降公開、公告された最近のもの)

I. 権利化および公告されたもの
1) 反射型マスクおよび該反射型マスクを用いた露光装置と露光方法
新部正人、鈴木雅之、池田勉、福田恵明、小倉繁太郎
特許登録-2546312 (1996.10.23)

2) チタン酸ビスマス薄膜の形成方法
金子典夫、山本敬介、石渡恭彦、新部正人、元井泰子、塚本健夫
特許登録-2547203 (1996.10.23)

3) チタン酸ビスマス薄膜の形成方法
金子典夫、山本敬介、石渡恭彦、新部正人、元井泰子、塚本健夫
特許登録-2547204 (1996.10.23)

4) X線又は真空紫外線多層膜反射鏡
小倉繁太郎、林田雅美、新部正人
特許登録-2585300 (1997. 2.26)

5) 非強誘電性圧電体薄膜の製造方法および分極の調査方法
新部正人、元井泰子、石渡恭彦、山本敬介、金子典夫
特許登録-2618404 (1997. 6.11)

6) 圧電体多層膜およびその製造方法
新部正人、山本敬介、元井泰子、石渡恭彦、金子典夫
特許登録-2644241 (1997. 8.25)

7) X線又は真空紫外線多層膜反射鏡の作製方法
小倉繁太郎、林田雅美、新部正人
特許登録-2648599 (1997. 9. 3)

8) 軟X線又は真空紫外線多層膜反射鏡の作製方法ならびに光学素子
新部正人、林田雅美、飯塚隆、福田恵明、小倉繁太郎、渡辺豊
特許登録-2692881 (1997.12.17)

9) 成膜装置
飯塚隆、望月則孝、林田雅美、新部正人、渡辺豊、福田恵明
特許登録-2710988 (1998. 2.10)

10) 軟X線・真空紫外線露光用多層膜反射鏡
新部正人、林田雅美、飯塚隆、福田恵明
特許登録-2723955 (1998. 3. 9)

11) 放射光用光学素子の汚れ除去装置および方法
飯塚隆、福田恵明、林田雅美、新部正人
特許登録-2819166 (1998.10.30)

12) 軟X線・真空紫外線用ハーフミラー又はビームスプリッター
飯塚隆、新部正人、林田雅美、福田恵明
特許登録-2883100 (1999. 4.19)

13) X線を用いた観察装置
林田雅美、渡辺豊、新部正人、飯塚隆、福田恵明
特許登録-2921038 (1999. 7.19)

14) 多層膜反射鏡および該多層膜反射鏡を有する光学装置
新部正人、渡辺豊、福田恵明
特許登録-3065706 (2000. 7.17)

15) 放射光照明装置および方法
飯塚隆、福田恵明、林田雅美、新部正人
特許登録-3096021 (2000. 8. 4)

16) 光学素子の形状制御方法および露光装置
新部正人、福田恵明
特許登録-3132086 (2001. 2. 5)

17) 電子放出素子、電子源及びそれを用いた画像製造装置の製造方法
富田佳紀、岡村好真、新部正人
特許登録-3132086 (2001. 7. 9)

18) 大画面画像表示装置用基盤、その製造方法及び大画面画像表示装置
高松修、新部正人、笠貫有二
特開平 7-134561 (1995. 5.23)

19) 被照射部材の温度制御方法およびその装置
林田雅美、新部正人、福田恵明
特開平 5-190409 (1993. 7.30)

20) 画像形成装置及びその製造方法
多川昌宏、宮崎俊彦、新部正人、金子正、中村尚人
特開平 7-230776 (1995. 8.29)

21) 電子放出素子基板、その駆動方法、及び同基板を組込んだ画像形成装置
川崎秀司、新部正人
特開平 8-007745 (1996. 1.12)

22) 静電アクチュエータ
川上英悟、渡辺信男、米田弘、能瀬博康、矢野哲哉、小俣智司、湯浅聡、
石渡恭彦、新部正人
特公平6-101938 (1994.12.12)

23) 静電アクチュエータ
川上英悟、渡辺信男、米田弘、能瀬博康、矢野哲哉、小俣智司、湯浅聡、
石渡恭彦、新部正人
特公平7-112354 (1995.11.29)

II. 公開されたもの
24) 光学素子の形状安定化法及びそれを用いた光学装置
新部正人、福田恵明
特開平 5-066297 (1993. 3.19)

25) 軟X線用多層膜
新部正人、福田恵明
特開平 7-005296 (1995. 1.10)

26) 配線構造及びこれを用いた画像形成装置
新部正人、金子哲也、長田芳幸、吉岡征四郎
特開平 7-065649 (1995. 3.10)

27) 平面型画像表示装置
田村美樹、新部正人
特開平 7-130304 (1995. 5.19)

28) 平面型画像形成装置
笠貫有二、新部正人
特開平 7-134559 (1995. 5.23)

29) 多層配線構造及び製造方法
大栗宣明、新部正人
特開平 7-142579 (1995. 5. 2)

30) 平面型画像形成装置
鈴木義勇、安藤友和、新部正人
特開平 7-181901 (1995. 7.21)

31) 電気配線基板の修繕方法
高松修、大栗宣明、新部正人
特開平 7-273206 (1995.10.20)

32) 電気配線基板の製造方法
高松修、大栗宣明、新部正人
特開平 7-273430 (1995.10.20)

33) 配線基板修正装置、及び同装置を用いる配線基板修正方法
大栗宣明、高松修、新部正人
特開平 7-302966 (1995.11.14)

34) 電子源およびその製造方法、ならびに画像形成装置
岡村好真、新部正人
特開平 7-320630 (1995.12. 8)

35) 電子放出素子基板、その駆動方法、及び電子放出素子基板を組込んだ画像形成装置
川崎秀司、新部正人
特開平 7-320666 (1995.12. 8)

36) 配線形成方法、電子源およびその製造方法、ならびに画像形成装置
岡村好真、新部正人
特開平 7-321110 (1995.12. 8)

37) 電子放出素子および画像形成装置
笠貫有二、新部正人
特開平 8-055562 (1996. 2.27)

38) 電子放出素子、電子源基板、電子源および画像形成装置ならびにそれらの製造方法
三道和宏、宮本雅彦、新部正人
特開平 8-111171 (1996. 4.30)

39) 電子源基板及び画像形成装置の製造方法
川崎秀司、新部正人
特開平 8-115655 (1995. 5. 7)

40) 表面伝導型電子放出素子、電子源基板および画像形成装置ならびにそれらの製造方法
渡邊信男、新部正人、宮本雅彦
特開平 8-160881 (1996. 6.21)

41) 電子源基板、電子源、画像形成装置及びそれらの製造方法
岡村好真、新部正人
特開平 8-162001 (1996. 6.21)

42) 電子放出素子および該素子を用いた電子源および画像形成装置ならびにそれらの製造方法
田村美樹、宮本雅彦、新部正人
特開平 8-162009 (1996. 6.21)

43) 電子放出素子、電子源、及びそれを用いた画像形成装置と、それらの製造方法
渡邊信男、新部正人
特開平 8-162013 (1996. 6.21)

44) 電気配線の短絡欠陥の修正方法、電気配線基板の製造方法および電子源の製造方法
新部正人、大栗宣明
特開平 8-204003 (1996. 8. 9)

45) 放射光照明装置および方法
飯塚隆、福田恵明、林田雅美、新部正人
特開平11-72598 (1999. 3. 16)

46) 電子放出素子、電子源、画像形成装置及びそれらの製造方法
川崎秀司、富田佳紀、岡村好真、新部正人
特開平 11-306960 (1999.11. 5)

50) 極端紫外光源用反射鏡汚染防止方法及び露光装置
新部正人、角谷幸信
特願2006-223743号 (2006. 2. 21)

51) 極端紫外光源用反射鏡汚染防止方法及び露光装置
新部正人、角谷幸信
WO2008/023463 (2007.8.16 国際出願、2008.2.28 国際公開)

なお、権利化されたものについては、ほぼ同数のU.S. Patent, European Patent 等が申請され、
海外でも権利化されている。


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