波面計測(EUV wavefront metrology)

＜極端紫外線（ＥＵＶ）干渉計によるＥＵＶ露光光学系の波面収差計測法の開発＞

 

　 ＥＵＶリソグラフィーに用いられる投影光学系は、回折限界の性能を得るためには、１nm以下の波面収差を実現する必要がある。また、用いられるミラーには多層膜反射に起因する反射波面の位相変化が生じるので、可視光とＥＵＶ光で測定した波面は厳密には一致しない。

　したがって、実際の露光波長（実波長）を用いて、波面を計測、評価することが重要ある。NewSUBARUでは、長尺アンジュレータビームラインにおいて、ＥＵＶ光(13.5 nm)での干渉波面計測法を開発した。

 

 

ＥＵＶ投影光学系絶対波面計測装置


６枚ミラー投影光学系の波面収差測定、0.1 nm以下の計測精度を確立した。

 

 

<公表論文>
[1]

  1. “Present Status of the ASET At-Wavelength Phase-Shifting Point Diffraction Interferometer”

K. Sugisaki, Y. Zhu, Y. Gomei, M. Niibe, T. Watanabe, H. Kinoshita:
    Proc. SPIE, 4146, 47-53 (2000).

[2]

  1. “Current Status of ASET-HIT EUV phase-shifting point diffraction interferometer”

Y. Gomei, K. Sugisaki, Y. Zhu, M. Niibe, T. Watanabe, H. Kinoshita:
    Proc. SPIE, 4506, 39-45 (2001).

[3]

  1.  “Proposal of at-wavelength PDI for EUVL optics alignment by using a compact undulatot”,

Y. Gomei, K. Sugisaki, Y. Zhu, M. Niibe:

Microelectronic Eng., 61-62, 1077-1082 (2002).

[4]

  1.  "ASET development of at-wavelength phase-shifting point diffraction interferometer,"

    K. Sugisaki, Y. Zhu, Y. Gomei, and M. Niibe,
SPIE Vol. 4688 (2002).

[5]

  1.  “Development of EUV point diffraction interferometry using NewSUBARU undulator radiation,”

M. Niibe, M. Mukai, T. Tanaka, K. Sugisaki, Y. Zhu, and Y. Gomei : 
   SPIE Vol. 4782, 204-211 (2002).

[6]

  1.  “Lateral shearing interferometry for EUVL: theoretical analysis and experiment”,

Y. Zhu, K. Sugisaki, C. Ouchi, T. Hasegawa, M. Hasegawa, S. Kato, J. Saito, M. Niibe, A. Suzuki,    K. Murakami:
SPIE Vol.5374, 824-832 (2004).

[7]

  1.  “EUV wavefront metrology system in EUVA”,

T. Hasegawa, C. Ouchi, M. Hasegawa, S. Kato, K. Sugisaki, A. Suzuki, K. Murakami, J. Saito, M. Niibe:
SPIE Vol.5374, 797-807 (2004).

[8]

  1.  “Evaluation of contamination deposition on pinholes used in EUV at-wavelength PDI”,

K. Sugisaki, M. Hasegawa, S. Kato, C. Ouchi, J. Saito, M. Niibe, A. Suzuki, K. Murakami:
SPIE Vol.5374, 702-709 (2004).

[9]

  1.  “Recent Progress of EUV wavefront metrology in EUVA”,

M. Hasegawa, C. Ouchi, T. Hasegawa, S. Kato, A. Ohkubo, A. Suzuki, K. Sugisaki, M. Okada, K. Otaki, K. Murakami, J. Saito, M. Niibe:
SPIE Vol.5533, 27-36 (2004).

[10]

  1.  “Double-grating shearing interferometer for EUV optics at-wavelength measurement”,

Z. Liu, M. Okada, K. Sugisaki, M. Ishii, Y. Zhu, J. Saito, A. Suzuki, M. Hasegawa, C. Ouchi, S. Kato, M. Niibe, K. Murakami:
SPIE Vol.5752, 663-672 (2005).

[11]

  1.  "Experimental comparison of absolute PDI and lateral shearing interferometer"

   Y. Zhu, K. Sugisaki, M. Okada, K. Otaki, Z. Liu, M. Ishii, J. Kawakami, J. Saito, K. Murakami, C. Ouchi, M. Hasegawa, S. Kato, T. Hasegawa, A. Suzuki, M. Niibe:
SPIE Vol.5752, 1192-1199 (2005).

[12]

  1.  “Comparison of EUV interferometry methods in EUVA project”,

S. Kato, C. Ouchi, M. Hasegawa, A. Suzuki, T. Hasegawa, K. Sugisaki, M. Okada, Z. Yucong, K. Murakami, J. Saito, M. Niibe and M. Takeda:
SPIE Vol.5751, 110-117 (2005).

[13]

  1.  「軟Ｘ線干渉法によるＥＵＶＬ投影光学系の波面収差計測」

新部正人、　百生，平野編，
KEK Proc. 2005-5 「Ｘ線位相利用計測における最近の展開II」40-43 (2005).

[14]

  1.  "Comparisons between EUV at-wavelength metrological methods”,

K. Sugisaki, M. Okada, Y. Zhu, K. Otaki, Z. Liu, J. Kawakami, M. Ishii, J. Saito, K. Murakami, M. Hasegawa, C. Ouchi, S. Kato, T. Hasegawa, A. Suzuki, H. Yokota, M. Niibe, M. Takeda:
SPIE Vol.5921, 81-88 (2005).

[15]

  1.  “EUVA's challenges toward 0.1nm accuracy in EUV at-wavelength interferometry,”

K. Sugisaki, M. Hasegawa, M. Okada, Y. Zhu, K. Otaki, Z. Liu, M. Ishii, J. Kawakami, K. Murakami, J. Saito, S. Kato, C. Ouchi, A. Ohkubo, Y. Sekine, T. Hasegawa, A. Suzuki, M. Niibe, M. Takeda:
Proc on Fringe 2005 P252 (2005).

[16]

  1. 「軟Ｘ線干渉法によるＥＵＶ投影光学系の波面計測」、

新部　正人：
放射光 19, 20-26 (2006).

[17]

  1.  “EUV Wavefront Metrology at EUVA”,

C. Ouchi, S. Kato, M, Hasegawa, T. Hasegawa, H, Yokota, K. Sugisaki, M. Okada, K. Murakami, J. Saito, M, Niibe, M. Takeda:
SPIE, Vol. 6152 (2006).

[18]

  1.  ”Accuracy Evaluation of the X-ray Interferometer for Extreme Ultraviolet Lithography Optics”

K. Otaki, K. Sugisaki, M. Okada, Y. Zhu, Z. Liu, J. Saito, K. Murakami, C. Ouchi, S. Kato, M. Hasegawa, T. Hasegawa, A. Suzuki, H. Yokota, M. Niibe:
,S. Aoki, Y. Kagoshima and Y. Suzuki ed. X-ray Microscopy, IPAP Conf. Proc. 7, 183-185 (2006).

[19]

  1.  “Wavefront Metrology for EUV Projection Optics by Soft X-ray interferometry in the NewSUBARU”,
  2. M, Niibe, K. Sugisaki, M. Okada, S. Kato, C. Ouchi, T. Hasegawa:

J-Y Choi and S Rah ed. Synchrotron Radiation Instrumentation, AIP Conf. Proc. 879, 1520-1523 (2007).

[20]

  1.  "Wavefront measurement interferometry at the operational wavelength of extreme-ultraviolet lithography.
  2. " Y. Zhu, K. Sugisaki, M. Okada, K. Otaki, Z. Liu, J. Kawakami, M. Ishii, J. Saito, K. Murakami, M. Hasegawa, C. Ouchi, S. Kato, T. Hasegawa, A. Suzuki, H. Yokota,M. Niibe:

Appl. Opt. 46, 6783 -6792 (2007).

[21]

  1.  “EUV wavefront measurement of six-mirror optics using EWMS”,

K. Sugisaki, M. Okada, K. Otaki, Y. Zhu, J. Kawakami, K. Murakami, C. Ouchi, M. Hasegawa, S. Kato, T. Hasegawa, H. Yokota, T. Honda M. Niibe:
SPIE Vol.6921, 6921106-1 (2008).


Copyright (C) 2010 Niibe Masahito Home Page. All Rights Reserved.