＜内海裕一＞
(1)改訂版・表面科学の基礎と応用　（共著）

日本表面科学会編, ２００４年６月２２日発行。�潟Gヌ・ティ・ーエス。
　　“基盤技術編―表面・界面の作製技術-光ＣＶＤ”, pp.550-557.

(2)超精密生産技術体系 - 第１巻　超精密生産技術, 基本技術-（共著）

１９９４年１１月発行。�潟tジ・テクノシステム。
　“放射光励起ＣＶＤ法”, pp.968-975.

(3)季刊化学総説 No.12 「表面励起プロセスの化学」 （共著）

日本化学会編, １９９１年6月発行。学会出版センター。
“放射光励起による表面プロセシング”, pp.104-112.

(4)プラズマ材料科学ハンドブック（共著）

日本学術振興会編,１９９２年９月発行。オーム社。
　　“光エッチング−放射光法−”, pp.583-589. 

(5)『詳細・最新電鋳技術』（株式会社情報機構、2008年３月出版、共著、第４章第５節「マイクロ立体化学システムへの応用」ｐ232-244）、

(6)『ケミカルエンジニヤリング』（株式会社化学工業社、2007年１１月出版、「放射光ＬＩＧＡプロセスを用いた３次元マイクロ化学システムの開発」ｐ854-860、

(7)『バルブ技報』（社団法人バルブ工業会、2008年３月出版、「放射光ＬＩＧＡプロセスを用いた多機能流体フィルタの開発」ｐ77-85、　
 
                                                                                   
(8)『電子材料』（株式会社工業調査会、2008年3月出版、「波長可変型大面積ＬＩＧＡプロセスの開発と高輝度液晶パックライトユニットへの　　応用」ｐ82-88