〇 第70回応用物理学会春季学術講演会, 2023.3.15-18, 上智大学四谷キャンパス
・ 高水素化DLC膜の熱分解過程(2) [22a-A202-3]
丹羽大輔，三嶋友博，飯田直也，中西康次，福室直樹，鈴木常生，神田一浩
・ DLC膜の単色化軟X線照射効果 [22a-A202-5]
三嶋友博, 森田恭司, 中西康次, 神田一浩, 赤坂大樹
・ 圧力勾配式高周波マグネトロンスパッタ法を用いたアモルファス窒化炭素薄膜の作製 [21a-P01-8]
青野祐美，寺内正己, 森田恭司, 井上祐, 神田一浩
〇 第20回 Cat-CVD研究会，2023.6.22-6.23 (北九州国際会議場)
・ 原子状水素アニールおよび軟 X 線照射による酸化グラフェンの低温還元 [O08]
部家 彰，藤淵 暁昇，神田 一浩，住友 弘二
・ 原子状水素アニールによる酸素含有フッ素コート膜の表面処理 [O09]
大塚 英雄，部家 彰，神田 一浩，住友 弘二
・ Si-rich SiOx膜の原子状水素アニールによる表面改質における軟X線照射効果
[O10]
太田和志，部家彰，住友弘二，神田一浩，井上尚三
〇 The 9th TKU-ECUST-KIST-OMU-UH-IHU-KMITL-UTAR-TNU-HUFI Joint Symposium
on Advanced Materials and Applications (JSAMA-9), 2023.9.1 (University
of Hyogo, Japan)
・ Network tele-microscopy observation of spheroidal graphite cast iron
at Hyogo Prefecture in Japan [P43]
Kaito Sato, Takeshi Nagase, Kazuhiro Kanda, Michiru Yamashita, Toru
Maruyama, Satoshi Ichikawa, Ryuji Nishi
・ Decomposition process of highly-hydrogenated diamond-like carbon films
by the annealing effect [P44]
Daisuke Niwa, Tomohiro Mishima, Naoya Iida, Koji Nakanishi, Naoki
Fukumuro, Tsuneo Suzuki, and Kazuhiro Kanda
・ Energy dependence of soft X-ray irradiation effect on highly
hydrogenated diamond-like carbon films [P47]
Tomohiro Mishima, Kyoji Morita, Koji Nakanishi, Hiroki Akasaka, Tsuneo
Suzuki, and Kazuhiro Kanda
〇 第85回応用物理学会秋季講演会, 2023.9.19-23, 熊本城ホールほか
・単色化軟X線照射によるDLC膜の体積変化 [20p-C402-6]
三嶋 友博、森田 恭司、中西 康次、赤坂 大樹、鈴木 常生、神田 一浩
・昇温による高水素化DLC膜の自由体積の変化 [20p-C402-7]丹羽 大輔、三嶋 友博、中西 康次、福室 直樹、木野村 淳、神田 一浩
〇 The 2nd World Symposium on Materials Sciences and Engineering
(SMSE-2023), 2023.11.8-11.10 (InterContinental Singapore, Singapore)
・ Structural Analysis and Classification of DLC Films Using Low Energy
Positron Beam, Soft X-ray Beam and High Energy Ion Beam [Oral] Kazuhiro
Kanda
・ Annealing effect on the structure and physical properties of H-DLC
films [Poster]
Daisuke Niwa, Tomoya Mishima, Koji Nakanishi, Naoki Fukumuro, Masaya
Takeuchi, Tsuneo Suzuki, and Kazuhiro Kanda
・ Dependence of Soft X-ray Irradiation Effect on Highly Hydrogenated DLC
Films on Photon Energy [Poster]
Tomohiro Mishima, Kyoji Morita, Koji Nakanishi, Hiroki Akasaka, Tsuneo
Suzuki, and Kazuhiro Kanda
〇 薄膜材料デバイス研究会 第20回研究集会, 2023.11.9-11.10
（龍谷大学響都ホール交友会館）
・原子状水素アニール処理した酸素含有フッ素膜の特性評価 [09p-P13]
大塚 英雄，部家 彰，神田 一浩，住友 弘二
・ 軟X線照射 Si-rich
SiOx膜の表面に対する原子状水素アニール効果と処理時間依存性 [09p-P25]
太田和志，部家彰，住友弘二，神田一浩，井上尚三 |