○26th annual meeting of the Materials Research Society of Japan (MRS-J)
Dec. 19-22, 2016, Yokohama Port Opening Plaza, Yokohama, Japan
・Evaluation of amorphous carbon film by X-ray absorption spectroscopy
[D3-I21-003]
Kazuhiro Kanda (Invited)
・Modification of Si containing hydrogenated DLC films by soft x-ray
irradiaton
[D3-P21-008]
Shotaro Tanaka, Makoto Okada, Takayuki Hasegawa, Masahito Niibe,
and Kazuhiro Kanda
・Effect of the soft X-ray irradiation on the surface of fluorinated
DLC films
[D3-P21-009]
Hiroki Takamatsu, Makoto Okada, Masahito Niibe, and Kazuhiro Kanda
○第77回応用物理学会秋季学術講演会 2016/9/13〜16 朱鷺メッセ
・フッ素化DLC薄膜表面への軟X線照射による膜特性変化 15a-A26-7
高松 大樹, 三浦 永理, 神田 一浩
・軟X線照射によるSi含有水素化DLC膜の膜改質の温度依存性 15a-A26-10
田中 祥太郎, 岡田 真, 神田 一浩
・ダイヤモンド状炭素系膜の耐薬品性能評価 14p-A23-8
赤坂 大樹, 鈴木 常生, 中野 雅之, 神田 一浩, 大竹 尚登
・BEMA法及びNEXAFS法を用いたDLC膜の構造評価 14p-A23-9
周 小龍, 荒川 悟, 鈴木 常生, 小松 啓志, 神田 一浩, 齋藤 秀俊
○第63回応用物理学会春季学術講演会 2016/3/19〜22 東工大 大岡山キャンパス
・NEXAFS法と固体NMR法によるDLC膜のsp3/(sp3+sp2)比率の定量分析 20p-H103-7
周 小龍, Tunmee Sarayut, 鈴木 常生, 河原 成元, 神田 一浩, Phothongkam Pat,
中島 秀樹, 小松 啓志, 齋藤 秀俊
・軟X線照射によるSi含有水素化DLC膜の膜改質 20p-H103-11
田中 祥太郎, 長谷川 孝行, 岡田 真, 松井 真二, 神田 一浩
・フッ素化DLC薄膜表面への軟X線照射による機能性変化 20p-H103-12
高松 大樹, 岡田 真, 松井 真二, 新部 正人, 神田 一浩
○第29回日本放射光学会・放射光科学合同シンポジウム(JSR2016)
2016/1/9〜11 東京大学柏の葉キャンパス駅前サテライト
・共鳴遷移放射によるEUV光発生の検討 ［10P007］
竹内 雅耶, 天野 壮, 橋本 智, 新部 正人, 宮本 修治, 神田 一浩
・産業用分析ビームライン(BL05)の高度化と成果 ［10P116］
小高 拓也, 竹内 和基, 福島 整, 春山 雄一, 新部 正人, 神田 一浩
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