○ 4th Workshop for International Standardization of Diamond-like Carbon
Coatings.
Meguro-ku, Tokyo, Nov. 19, 2010
・ Near-Edge X-ray Absorption Fine Structure Spectra of Si-containing
DLC Thin Films.
Kazuhiro Kanda, Masahito Niibe, Akira Wada, Haruhiko Itoh,
Tsuneo Suzuki, and Hidetoshi Saitoh [P6]
・ Title: Near edge X-ray absorption fine structure measurements of DLC
and
a-SiCx:H films.
Akira Wada, Takeshi Ogaki, Tomoyuki Yasukawa, Fumio Mizutani, Masahito
Tagawa,
Tsuneo Suzuki, Masahito Niibe, Hidetoshi Saitoh, Kazuhiro Kanda, and
Haruhiko Ito [P7]
○ 第24回ダイヤモンドシンポジウム 東京工業大学 平成22年11月17日〜19日
・ Si含有DLC薄膜のX線吸収端近傍微細構造ｽﾍﾟｸﾄﾙ
神田一浩，和田晃，伊藤治彦，鈴木常生，斎藤秀俊 [104]
・ He， Ne， ArのECRﾌﾟﾗｽﾞﾏを用いて作成したa-CNx薄膜の局所構造解析
和田晃，越村克明，新部正人，斎藤秀俊，神田一浩，伊藤治彦 [201]
○ 23rd International Microprocesses and Nanotechnology Conference(MNC2010)
Fukuoka, Nov. 9-12, 2010
・ Annealing Effect of W incorporated DLC fabricated by Ga focused ion
beam CVD.
A. Wada, T. Suzuki, M. Niibe, H. Ito and K. Kanda [11D-8-134L]
・ High-resolution UV Nanoimprint Mold fabricated by EB Lithography using
Calix Arene.
S. Omoto, M. Okada, Y. Kang, Y. Nakai, K. Kanda, Y. Haruyama,
S. Tono and S. Matsui [11D-8-94]
・ Characteristics of Synthesized Radicaland Cationic-UV Nanoimprint Resins.
Y. Sawada, M. Okada, H. Miyake, T. Ohsaki, Y. Hirai, Y. Haruyama,
K. Kanda and S. Matsui [11D-8-95]
・ Wafer Scale Room-Temperature Nanoimprint using Spin-Coated HSQ with
PDMS Mold.
Y. Kang, S. Omoto, M. Okada, K. Kanda, Y. Haruyama and S. Matsui [11D-8-96]
・ Evaluation of Si Containing UV Nanoimprint Resin and Bilayer Structure
Application.
D. Yamashita, M. Okada, Y. Kang, Y. Haruyama, K. Kanda and S. Matsui
[11D-8-138L]
・ Annealing Effect of Fe-Ga doped DLC Film formed by Focused-ion-beam.
Chemical Vapor Deposition using Ferrocene Source Gas
Y. Nakai, Y. Kang, M. Okada, Y. Haruyama, K. Kanda and S. Matsui [12D-11-56]
・ Fabrication and Characterization of SiOx Moth-eye Structure by Room-temperature.
Nanoimprint using HSQ.
Y. Kang, M. Okada, K. Kanda, Y. Haruyama and S. Matsui [12D-11-87]
・ Adhesion Force Measurement by Scanning Probe Microscopy under
Pentafluoropropane Gas Atmosphere.
M. Okada, M. Iwasa, Y. Haruyama, K. Kanda, H. Hiroshima and S. Matsui
[12D-11-97]
・ In-situ Measurement of Adhesion Force between Fluorinated Self-assembled
Monolayer and UV Nanoimprint Resin by scanning Probe Microscopy.
M. Okada, M. Iwasa, Y. Haruyama, K. Kanda, K. Kuramoto,
M. Nakagawa and S. Matsui [12D-11-100]
○ 第46回X線分析討論会 広島県情報プラザ 2010年10月22日〜23日
・ 産業用分析ビームライン(BL05)の現況について
-標準物質を用いた軟X 線XAFS 測定による性能評価-
長谷川孝行・上村雅治・鶴井孝文・清水政義・深田 昇・岩田谷正純・
横井信生・澤旨次郎・太田俊明・福島 整・雨宮健太・元山宗之・神田一浩 [P-43]
○ The 9th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology
(NNT2010)
Oresund & Copenhagen, October 13-15, 2010.
・ Evaluation Of Interaction Between Antisticking Layer And UV Curable
Resin By
Scanning Probe Microscopy.
Makoto Okada, Masayuki Iwasa, Yuichi Haruyama, Kazuhiro Kanda,
Kei Kuramoto, Masaru Nakagawa,and Shinji Matsui [P25]
・ Fabrication And Characterization Of Siox Moth-Eye Structure By
Room-Temperature Nanoimprint Using Caged- And Ladder-HSQ.
Yuji Kang, Makoto Okada, Kazuhiro Kanda, Yuichi Haruyama, and Shinji
Matsui, [P26]
○ The 36th International Conference on Micro & Nano Engineering (MNE2010)Genoa.
Italy, September 19-22, 2010
・ Evaluation of imprinting characteristics for photoinduced liquid crystalline
polymer.
Okada Makoto; Kondo Mizuho; Kanda Kazuhiro; Haruyama Yuichi, Kawatsuki
Nobuhiro;
Shinji Matsui [O-LITH-04]
○ 第71回応用物理学会学術講演会 長崎大学 平成22年9月14日〜17日
・ 軟X線照射による水素化DLC膜の屈折率変化 「薄膜・表面分科内招待講演」
神田一浩，松井真二 [16p-ND-1]
・ He, Ne, ArのECRプラズマを用いて作成したa-CNx薄膜の局所構造解析
和田 晃，越村克明，新部正人，齋藤秀俊，神田一浩，伊藤治彦 [16p-ND-13]
・ 高解像度ネガ型レジストCalixAreneを用いたEBリソグラフィーによる
ナノインプリントモールドの作製
大本慎也，岡田 真，姜 有志，神田一浩，春山雄一，東野誠司，松井真二 [15a-K-1]
・ Si含有UV硬化レジストパターンをマスクとして用いた二層構造の作製
山下大輔，岡田 真，姜 有志，神田一浩，春山雄一，松井真二 [15a-K-4]
・ PDMSモールドを用いたスピンコートHSQ膜への低圧室温ナノインプリント
姜 有志，岡田 真，神田一浩，春山雄一，松井真二 [15a-K-5]
・ 走査型プローブ顕微鏡による離型膜とUVナノインプリントレジストとの付着力評価
岡田 真，岩佐真行，春山雄一，神田一浩，倉本 圭，中川 勝，松井真二 [15p-K-2]
・ 接触角測定によるペンタフルオロプロパンガス雰囲気下における離型効果の評価
知念美佳，岡田 真，春山雄一，神田一浩，廣島 洋，松井真二 [15p-K-3]
・ UVナノインプリントにおけるラジカル系及びカチオン系UV硬化性樹脂の評価
澤田陽平，岡田 真，三宅弘人，大幸武司，平井義彦，春山雄一，
神田一浩，松井真二 [15p-K-8]
・ FIB-CVD法で成膜されたFe-Ga含有薄膜のアニール効果
中井康喜，姜 有志，岡田 真，春山雄一，神田一浩，松井真二[14a-E-11]
○ The 3rd Asian Symposium on Nano Imprint Lithography (ASNIL 2010)
Tsukuba International Conference Center, Tsukuba, June 30 - July 2, 2010
・ Fabrication of High-Resolution Nanoimprint Mold by Electron Beam Lithography
Using
Calix Arene.
S. Omoto, M. Okada, Y. Kang, K.Kanda, Y. Haruyama, S. Tono, and S. Matsui
[1P-1]
・ Fabrication and Characterization of SiOx Moth-Eye Structure by Room-Temperature
Nanoimprint with Liquid-Phase HSQ and PDMS Replica Mold.
Y. Kang, M. Okada, K. Kanda, Y. Haruyama and S. Matsui [1P-9]
・ Durability of Self-Assemble Monolayers Against Heat in Nanoimprinting.
Y. Nakai, S. Omoto, Y. Kang, M. Okada, K. Kanda, Y. Haruyama and S.
Matsui [1P-13]
・ Examination of Pentafluoropropane Gas Effect for UV Nanoimprint Resin
in
Macro-Scale Area.
M. Chinen, M. Okada, Y. Haruyama, K. Kanda, H. Hiroshima and S. Matsui
[1P-14]
・ UV Nanoimprinting on Calixarene Derivative.
M. Chinen, M. Okada, M. Iyo, S. Tachibana, Y. Haruyama, K. Kanda and
S. Matsui [1P-16]
・ Evaluation of Radical- and Cationic- UV-Curable Resins for Studying
UV-Nanoimprint.
Y. Sawada, M. Okada, H. Miyake, T. Ohsaki, Y. Hirai , Y. Haruyama,
K. Kanda and S. Matsui [2A-6]
・ Bilayer Resist Method Using Si Containing Photoresist in UV Nanoimprint
Lithography.
D. Yamashita, M. Okada, Y. Kang, Y. Haruyama , K. Kanda and S. Matsui
[22A-15]
○ The 54th International Conference on Erectron, Ion, and Photon Beam Technology
and
Nanofabrication (EIPBN'10) Anchorage, Alaska June 1-4, 2010
・ New Method of EB Exposure Stability using HSQ High-Resolution Negative
Resist.
Shinya Omoto, Makoto Okada, Yuji Kang, Yasuki Nakai, Kazuhiro Kanda,
Yuichi Haruyama, Shinji Matsui, [P2-1]
・ Evaluating Mechanical Characteristics of Various Shape Nanosprings
Fabricated by
Focused-ion-beam Chemical Vapor Deposition.
Yasuki Nakai, Yuji Kang, Makoto Okada, Yuichi Haruyama, Kazuhiro Kanda,
Shinji Matusi, [P5-3]
・ Durability Evaluation of Antisticking Layer by Step and Repeat UV Nanoimprinting.
Makoto Okada, Katsuhiko Tone, Meisyo Kiko, Tetsuya Katase*, Yuichi Haruyama,
Kazuhiro Kanda, Shinji Matsui, [P12-4]
・ Adhesion Force Evaluation of UV-Curable Nanoimprint Resins by
Scanning Probe Microscopy with UV Irradiation System.
Makoto Okada, Masayuki Iwasa*, Hiroto Miyake, Nobuji Sakai, Yuichi Haruyama,
Kazuhiro Kanda, Shinji Matsui, [P12-8]
・ Nanoimprint Replication of Three-Dimensional Structure Fabricated by
FIB-CVD.
Yuji Kang, Shinya Omoto, Yasuki Nakai, Makoto Okada, Kazuhiro Kanda,
Yuichi Haruyama, Shinji Matsui, University of Hyogo [9A.5]
○ 4rd International Conference on New Diamond and Nano Carbons(NDNC2010)
Suzhou, China May 15-21, 2010
・ Effect of O2 Plasma Etching on DLC Films.
Akira Wada, Tomoyuki Yasukawa, Fumio Mizutani, Masahito Niibe, Tsuneo
Suzuki,
Hidetoshi Saitoh, Hatuhiko Ito, Kazuhiro Kanda [P146]
・ Current Status of DLC Films Classification in Japan.
Hidetoshi Saitoh, Masanori Hiratsuka, Kenji Hirakuri, Kazuhiro Kanda,
Makoto Kano,
Masanori Tsujioka, Hideki Nakamori, Naoto Ohtake, Naoji Fujimori [P151]
・ Radiation Effect of the Soft X-ray on the Highly-Hydrogenated Diamond-Like
Carbon
Film.
Kazuhiro Kanda, Kumiko Yokota, Masahito Tagawa, Mayumi Tode, Yuden Teraoka,
Shinji Matsui [P157]
・ Local Structural Analysis of a-SiCx:H Films Formed by Decomposition
of
Tetramethylsialane in Microwave discharge flow of Ar.
Akira Wada, Takeshi Ohgaki, Masahito Niibe, Masahito Tagawa, Hidetoshi
Saitoh,
Kazuhiro Kanda, Hatuhiko Ito, [P412]
○ 黒鉛化合物研究会 (2010.5.20)
・ リチウムイオン電池負極用炭素粉末のC-K 端X 線吸収分析
西原克浩、山本浩司、永田辰夫、内田仁、新部正人、春山雄一、神田一浩、松井真二
○ 5th JAEA Synchrotron Radiation Research Symposium Material Science on
Metal Hydride.
(Harima)
・ Departure Process of Hydrogen from Highly-Hydrogenated Diamond-Like Carbon Film
by Exposure to Synchrotron Radiation,
K. Kanda, K. Yokota, M. Tagawa, M. Tode, Y. Teraoka, S. Matsui, [P-03].
○ 2010年春季第57回応用物理学関係連合講演会
・ 軟X線照射による水素化DLC膜からの水素放出過程
神田一浩，戸出真由美，寺岡有殿，松井真二 19a-TV-9
・ Arのマイクロ波放電フロー中でのテトラメチルシランの分解を用いた硬質a-SiCx膜の形成 (2)
局所構造解析
和田 晃，大柿 猛，・新部正人，田川雅人，齋藤秀俊，神田一浩，伊藤治彦 19p-TV-7
・ DLC膜に対する酸素プラズマエッチングの効果
和田 晃，安川智之，水谷文雄，新部正人，鈴木常夫，齋藤秀俊，伊藤治彦，
神田一浩 19p-TV-8
・ ネガ型レジストHSQのEB露光保存安定性の向上
大本慎也，岡田 真，姜 有志，中井康喜，神田一浩，春山雄一，松井真二 17p-W-1
・ 高解像度ネガ型レジストCalix Arene とHSQとのEB露光特性比較
大本慎也，岡田 真，姜 有志，神田一浩，春山雄一，東野誠司，松井真二 17p-W-2
・ PDMSモールドを用いたナノインプリントによるFIB-CVD３次元構造物の複製
姜 有志，中井康喜，岡田 真，神田一浩，春山雄一，松井真二 19p-ZH-4
・ 走査型プローブ顕微鏡を用いたその場UV照射による光ナノインプリントレジスト評価
岡田 真，岩佐真行，三宅弘人，坂井信支，春山雄一，神田一浩，松井真二 20a-ZH-9
・ フッ素含有離型剤の耐熱性評価
中井康喜，大本慎也，姜 有志，岡田 真，春山雄一，神田一浩，松井真二 20a-ZH-10
・ 高水素化DLC 膜への真空紫外線照射効果
横田久美子，田川雅人，古山雄一，神田一浩，戸出真由美，吉越章隆，寺岡有殿 19p-W-2
・ Ga FIB-CVD 法によるW含有DLCの作成とアニーリングによる影響
和田 晃，新部正人，鈴木常生，齋藤秀俊，伊藤治彦，神田一浩 19p-W-3
・ 集束イオンビーム化学気相成長法で作製した鉄含有ナノスプリングへのアニール効果
中井康喜，姜 有志，岡田 真，春山雄一，神田一浩，市橋徹也，松井真二 19p-W-6
・ 集束イオンビーム化学気相成長法により作製したSiOx含有ナノ構造物の物性評価
山下大輔，岡田 真，姜 有志，中井康喜，神田一浩，春山雄一，松井真二 19p-W-7
・ 軟Ｘ線照射による非晶質Ge膜の結晶化
礒田伸哉，井上智章，天野 壮，部家 彰，神田一浩，松尾直人，宮本修治，
望月孝晏 18a-D-9
○ 第23回日本放射光学会年会放射光科学合同シンポジウム (JSR10)
イーグレ姫路 平成23年1月6日〜1月9日
・ 軟X線照射による高水素化DLC膜の表面改質
神田一浩、横田久美子、田川雅人、松井真二 [4C006]
・ 産業用分析ビームライン(BL-5)を用いた高精度材料分析
長谷川孝行、上村雅治、鶴井孝文、清水政義、雨宮健太、福島整、太田俊明、
元山宗之、神田一浩[8P091]
|