○ 第20回ダイヤモンドシンポジウム，2006年11月（東京大学駒場リサーチキャンパス）
・ FIB?CVDで成膜したDLC薄膜のアニールによる構造変化[P17]
西窪明彦、加藤有理、井垣潤也、米谷玲皇、神田一浩、松井真二
・ パーフルオロヘキサン雰囲気中での放射光プロセスによるダイヤモンドライクカーボンの
表面改質[203]
山田 倫子、神田 一浩、春山 雄一、松井 真二
○ 2006 International Microprocesses and Nanotechnology Conference,
October (Kamakura Prince Hotel)
・ Mechanical characteristics of Fe and SiOx based pollars deposited by
FIB-CVD [26B-6-3]
J. Igaki, K. Nakamatsu, R. Ko,etani, K. Kanda, Y. Haruyama, T. Kaito
and S. Matsui.
・ Substrate temperature dependence of carbon pillar grown by
FIB-CVD [26B-6-5]
M. Okada, R. Kometani, K. Nakamatsu, T. Kaito, Y. Haruyama, K. Kanda
and S. Matsui
・ Annealing effect of the field emission from DLC emitter fabricated
by
FIB-CVD [26C-7-43]
R. Kometani, K. Kanda, Y. Haruyama, T. Kaito and S. Matsui
・ Fabrication and verification of micro electrostatic actuator by Focused-ion-beam
chemical-vapor-deposition [26C-7-49]
A. Ozasa, K. Nakamatsu, R. Kometani, K. Kanda, Y. Haruyama, T. Kaito
and S. Matsui.
・ Bakable lamellar grating fabrication by room-temperature nanoimprint
using hydrogen
silsesquioxane (HSQ) [26C-7-86]
C. Minari, K. Nakamatsu, K. Kanda, Y. Haruyama and S. Matsui.
・ Surface evaluation of fluorinated diamond-like carbon as an anti-sticking layer of
nanoimprint mold [27C-7-87]
N. Yamada, K. Nakamatsu, K. Kanda, Y. Haruyama and S. Matsui.
・ Fabrication of polytetrafluoroethylene microparts by high-energy X-ray induced
etching [26C-7-98]
Y. Ukita, K. Kanda, S. Matsui, M. Kishihara and Y. Utsumi.
○ 第67回応用物理学会関係連合講演会，2006年8月（立命館大学）
・ フッ素ＤＬＣコーティングモールドを用いたナノインプリントリソグラフィー[29a-RC-1]
山田 倫子、中松 健一郎、神田 一浩、春山 雄一、松井 真二
・ HSQ液滴塗布法を用いたナノインプリントによるマイクロレンズアレイの作製[30a-RC-2]
三成千明，中松健一郎，米谷玲皇，神田一浩，春山雄一，松井真二
・ 室温ナノインプリントにより作成されたHSQパターンへの酸素プラズマ照射効果[30a-RC-3]
中松健一郎，河守将典，春山雄一，神田一浩，松井真二
・ アンジュレータ光源を使ったX線励起によるa-Si膜中における原子移動[31a-K-2]
高田寛之，渡邊博史，部家彰, 河本直哉，神田一浩，新部正人，松尾直人，望月孝晏
・ アニールしたFIB-CVD DLC中のガリウムの定量分析[31p-K-7]
西窪明彦，井垣潤也，米谷玲皇，神田一浩，松井真二
・ FIB-CVDにより形成したDLCエミッタからの電界電子放出のアニール効果[31p-K-8]
米谷玲皇，神田一浩，春山雄一，皆藤孝，松井真二
・ FIB-CVDにおける堆積成長率の基板温度依存性[31p-K-9]
岡田真、 米谷玲皇，中松健一郎，皆藤孝，神田一浩，春山雄一，松井真二
・ 集束イオンビーム励起化学気相成長(FIB-CVD)により作製されたナノスプリングの
素線構造解析[31p-K-10]
中松健一郎，市橋鋭也，皆藤孝，神田一浩，春山雄一，松井真二
・ FIB/EB-CVDにより作製した配線のアニール温度依存性評価[31p-K-11]
小笹明賀，中松健一郎，米谷玲皇，神田一浩，春山雄一，皆藤孝，松井真二
・ FIB-CVDにより作製したSiOx系材料の機械物性評価[31p-K-12]
井垣潤也，中松健一郎，米谷玲皇，神田一浩，春山雄一，皆藤孝，松井真二
○ 第25回電子材料シンポジウム，2006年7月（ホテルサンバレー富士見）
・ プラズマCVD法により作製したa-CNx薄膜の局所構造解析[C11]
神田一浩，井垣潤也，加藤有理，米谷玲皇，西窪明彦，松井真二，伊藤治彦
・ 軟X線によるFIB-CVD DLCの電子状態評価[C16]
西窪明彦，加藤有理，井垣潤也，米谷玲皇，神田一浩，松井真二
・ FIB-CVDにより作製したバイオナノツールを用いた単一細胞内小器官操作[J10]
米谷玲皇，神田一浩，春山雄一，皆藤孝，藤田淳一，松井真二
・ 集束イオンビーム励起化学気相成長法により作製されたナノワイヤーの高温領域の
電気特性評価[K11]
中松健一郎，皆藤孝，市橋鋭也，藤田淳一，神田一浩，春山雄一，松井真二
○ The ninth International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation (SRI 2006),
May 2006 (Daegu Exhibition & Convention Center, Daegu, Korea)
・ Confirmation and readjustment of beam line optics using SHADOW, [DP-083],
Takahiro Matsubara, Shintarou Hisao, Kazuhiro Kanda, Yuri Kato, Yoshihiko
Shoji.
・ NEXAFS study of the annealing effect on the local structure of FIB-CVD
DLC, [JP-020]
Akihiko Saikubo, Yuri Kato, Jun-ya Igaki, Reo Kometani, Kazuhiro Kanda,
Shinji Matsui.
・ Photodissociation of Butyl Cyanides and Butyl Isocyanides in the VUV
Region, [PP-040],
Kazuhiro Kanda, Koichiro Mitsuke, Kaoru Suzuki, Toshio Ibuki.
・ The gas pressure-dependent contact angle of DLC surface by SR exposure under the
perfluorohexane (C6F14) gas atmosphere, [PP-075],
Noriko Yamada, Yuri Kato, Kazuhiro Kanda, Yuichi Haruyama, Shinji Matsui.
○ The 50th international conference on Electron, Ion and Photon Beam Technology
and
Nanofabrication, May 2006 (Baltimore Marriott Waterfront)
・ Mechanical Characteristics of Diamond-Like-Carbon Cantilever Plate
Fabricated by
Focused-Ion-Beam Chemical-Vapor-Deposition, p.101,
Jun-ya Igaki, Ken-ichiro Nakamatsu, Reo Kometani, Kazuhiro Kanda, Yuichi Haruyama,
Masahiko Ishida, Yukinori Ochiai, Toshinari Ichihashi, Jun-ichi Fujita, Takashi Kaito and
Shinji Matsui.
・ Evaluation of Pattern Resolution by FIB Process, p.109,
C. Minari, R. Kometani, K. Nakamatsu, K. Kanda, Y. Haruyama, T. Kaito
and S. Matsui.
・ Fabrication of Micro Mold by Synchrotron Radiation Direct Etching of
CYTOP for
UV polymerization Embossing, p.146,
Y. Ukita, K. Kanda, S. Matsui and Y. Utsumi.
・ W/SiO2 Thermal Bimorph Nano-Actuator Fabrication by Focused-Ion-Beam
Chemical-Vapor-Deposition, p.193,
C. Minari, R. Kometani, K. Kanda, Y. Haruyama, T. Kaito and S. Matsui.
・ Mechanical Property Control by Metal Sputtering onto DLC Nanosprings
Fabricated
Using Focused-Ion-Beam Chemical Vapor Deposition, p.195,
K. Nakamatsu, K. Kanda, Y. Haruyama, T. Ichihashi, T. Kaito and S. Matsui.
・ Evaluation of vacuum microcapsule fabricated by FIB-CVD, p.431,
R. Kometani, K. Kanda, Y. Haruyama, T. Kaito, J. Fujita and S. Matsui.
・ Fabrication of PTFE Microstructure using Synchrotron Radiation Direct
Etching for
Microfluidics Application, p.509,
Y. Ukita, K. Kanda, S. Matsui and Y. Utsumi.
○ 第53回応用物理学会関係連合講演会，2006年3月（武蔵工業大学）
・ FIB-CVDにおける分解能評価[22a-F-1]
三成千明，米谷玲皇，中松健一郎，皆藤孝，藤田淳一，神田一浩，春山雄一，松井真二
・ FIB-CVDによる配線の電気特性評価[22a-F-2]
小笹明賀，中松健一郎，米谷玲皇，神田一浩，春山雄一，皆藤孝，松井真二
・ FIB-CVDによる片持板の作製とその機械特性[22a-F-4]
井垣潤也，中松健一郎，米谷玲皇，神田一浩，春山雄一，石田真彦，落合幸穂，藤田淳一，
皆藤孝，松井真二，市橋鋭也
・ FIB-CVDナノスプリングへの金属スパッタコーティングによる
機械特性コントロール[22a-F-5]
中松健一郎，神田一浩，春山雄一，市橋鋭也，皆藤孝，松井真二
・ FIB-CVDによる真空マイクロカプセルの作製と評価[22a-F-6]
米谷玲皇，神田一浩，春山雄一，藤田淳一，皆藤孝，松井真二
・ FIB-CVD DLC中のガリウム−炭素結合に関するアニール評価[22a-F-7]
西窪明彦，加藤有理，井垣潤也，米谷玲皇，神田一浩，松井真二
・ C6F14ガス雰囲気下でのSR照射によるDLC表面の接触角変化における
C6F14ガス依存性[22p-F-1]
山田倫子，加藤有理，神田一浩，春山雄一，松井真二
・ プラズマCVD法により作製されたa-CNx薄膜の局所構造評価[24a-Q-3]
神田一浩，井垣潤也，加藤有理，米谷玲皇，松井真二，伊藤治彦
○ 第１９回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム 2006年1月(愛知)
・ ゲート絶縁膜材料の軟X線スペクトルによる電子構造解析
辻淳一, 藤田学, 宮田洋明, 山元隆志, 橋本秀樹, 春山雄一, 神田一浩, 松井真二
・ Au/Si(100)表面の表面相と電子状態
春山雄一,神田一浩, 松井真二
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