多層膜成膜用スパッタ装置
　　　　　EUV用多層膜の成膜をおこないます．現在は4インチSiウェハで６６％以上の反射率を得ています。

　　　電子線描画装置 (Elionix, ELS-3700)
　　　　　微細なパタンをつくるのに用います．これまでにZone PlateやEUVLmaskのパタニングを進めています．

　　　レジスト塗布・現像装置 (Tokyo Electron, Clean Track Mark-8)
　　　　　レジストの塗布・現像に使用します．（8インチウエハ用）

　　　シリル化装置 (Lam Research, TCP 9400 SE Alliance(A6))
　　　　　現在はドライエッチングに使用しています．

　　　走査電子顕微鏡（Hitachi, S-4500）
　　　　　露光したパタンの観察等に用います．

　　　原子間力顕微鏡 (Veeco, NanoScope III)
　　　　　おもに成膜した多層膜の表面粗さの測定に使用します．

　　　干渉計（ZYGO GPI XP)
　　　　　光学素子の形状評価や，光学系の調整に使用します．

　　　非接触型膜厚計 (Nano metrics, NanoSpec 6100)
　　　　　レジスト等の薄膜の膜厚を測定します．

　　　触針式段差計 (Sloan, Dektak3 ST)

　　　顕微FT-IR (Parkin Elmer, Spectrum One)