施設概要

極端紫外光リソグラフィービームライン

目的

BL03は極端紫外線(EUV)リソグラフィー技術の開発専用ビームラインです。次世代のリソグラフィー技術である極端紫外線リソグラフィーにおいて、重要開発課題であるレジストとEUVマスクを評価するためのビームラインです。

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構成

3分岐ビームライン BL03A, BL03B, BL03C
BL03A:EUV Resist,コヒーレントスキャトロメトリ顕微鏡(CSM)ビームライン
BL03B:極端紫外線顕微鏡(EUVM)ビームライン
BL03C:コンタミ評価ビームライン

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ミラー仕様

M1ミラー
入射角 3度
形状 凹面トロイダル
曲率半径 R = 51590mm, r = 141.3mm
サイズ 400 × 120 × 25mm
ミラー材質 Ni:GlidCop
コーティング Pt
M2ミラー
入射角 3度
形状 凹面トロイダル
曲率半径 R = 28661mm, r = 78.50mm
サイズ 140 × 50 × 15 mm
ミラー材質 Ni:GlidCop
コーティング Pt
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エンドステーション

コヒーレントスキャトロメトリ顕微鏡(BL03A)

EUVマスクの欠陥と線幅評価装置です。特徴として結像光学系を用いないレンズレス方式を採用しています。マスクパタンにコヒーレント光を照射し、回折パタンを直接CCDカメラで記録します。反復計算によるデータ処理により、回折パタンよりパタン像として像再生します。パタン線幅は回折光強度より評価可能であり、0.1 nm程度の線幅均一性を評価可能です。サンプルは150 mm角の6025ガラス基板が直接ロードでき、サンプル全面を検査できます。
さらにロードロックチャンバーが備わっており、1時間程度でサンプル交換できます。
装置がクリーンルーム内に設置されており,EUVマスクを汚染することなく検査できます。
Ref.) ”Mask observation results using a coherent extreme ultraviolet scattering microscope at NewSUBARU", Tetsuo Harada, Junki Kishimoto, Takeo Watanabe, Hiroo Kinoshita, Dong Gun Lee, J. Vac. Sci. Technol. B 27, pp. 3203-3207 (2009).

レジスト評価装置(BL03A)

レジスト感度とアウトガス評価装置です。EUVリソグラフィーで実際に使われる結像光学系と同様のスペクトルでのレジスト感度評価が可能なビームラインです。偏光電磁石からの白色光をMo/Si多層膜で7回反射させ、サンプルレジスト上に4×4mmのサイズでEUV光を照射します。電磁シャッタにより照射時間を精密に制御し、残膜より感度を評価します。また、四重極型質量分析計によりレジストからのアウトガス測定も可能です。ニュースバルに設置されたクラス100クリーンルームにてレジスト塗布と膜厚計による残膜評価が可能です。
Ref.) "Novel Evaluation System for Extreme Ultraviolet Lithography Resist in NewSUBARU", Takeo Watanabe, Hiroo Kinoshita, Noriyuki Sakaya, Tsutomu Shoki and Seung Yoon Lee, Jpn. J. Appl. Phys. 44, pp.5556-5559 (2005).

極端紫外線顕微鏡(BL03B)

マスク検査用のEUV顕微鏡です。反射型結像光学系とX線ズーミング管の2段結像系からなります。マスク上の検査パタンを2枚のMo/Si多層膜球面鏡からなるSchwarzschild光学系にて30倍に拡大します。さらにX線ズーミング管により10~200倍に拡大することで、最終的には300~6000倍の拡大像を得ます。サンプルは150mm角の6025ガラス基板が直接ロードでき、全面を検査できます。さらにロードロックチャンバーが備わっており、1時間程度でサンプル交換できます。空間分解能は50 nmが得られています。
Ref.) "Actinic mask metrology for extreme ultraviolet lithography", H. Kinoshita, T. Haga, K. Hamamoto, S. Takada, N. Kazui, S. Kakunai, and H. Tsubakino, T. Shoki, M. Endo, T. Watanabe, J. Vac. Sci. Technol. B 22, pp. 264-267 (2004).

コンタミ評価装置(BL03C)

白色光,またはEUV光を試料に照射して、表面に形成されるカーボン膜の生成過程をin-situエリプソメータでその場観察可能です。

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その他の共用機器

共用可能な機器
○ タッピングモードAFM NanoScopeIII(デジタルインスツルメンツ社製)
○ 干渉計測装置 GPI XP-HR(ZYGO社)

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