- 1.「NewSUBARU 加速器性能改善」
竹村育浩、皆川康幸(JASRI)、庄司善彦(高度研)
- 2.「ニュースバル放射光の高輝度化に向けた研究2
〜ビーム運転による実証およびTop-up電流値向上に向けたシナリオ〜」
陳彩華(物質理学研究科 M2)、橋本智、原田哲男、宮本修治(高度研)
- 3.「テラヘルツ光源開発に向けたLEENA加速器のアップグレード」
橋本智、天野壮、宮本修治(高度研)、陳彩華(物質理学研究科 M2)
皆川康幸、竹村育浩、川田健二(JASRI)、李大治(レーザー技術総合研究所)
- 4.「ガンマ線照射ビームライン拡張による安全インターロック対応」
川田健二、松下智裕、山下明広、田中良太郎(JASRI)、浅野芳裕(理化学研究所)
堀川賢、天野壯、宮本修治(高度研)、宇都宮弘章(甲南大学)
- 5.「レーザーコンプトン散乱ガンマ線によるイメージング」
北川靖久(物質理学研究科 M2)、戸中大輔、堀川賢、橋本智、宮本修治(高度研)
- 6.「6.7nm連続発生レーザープラズマEUV光源」
天野壮(高度研)、井上智章(工学研究科 D3)
- 7.「アルゴンバッファガスによるプラズマデブリ抑制」
井上智章 (工学研究科 D3)、望月孝晏、天野壯、神田一浩(高度研)
- 8.「DLC膜国際標準化プロジェクト」
神田一浩(高度研)
- 9.「DLC膜に対する軟X線照射効果の反応機構の解明」
藤本昌宏(工学研究科 M1)、神田一浩(高度研)、横田久美子、田川雅人(神戸大学大学院)
- 10.「軟X線照射によるBドーパントの活性化における拡散抑制」
福岡琢人(工学研究科 M2)、部家彰、松尾直人(工学研究科)、春山雄一、神田一浩(高度研)
- 11.「シンクロトロン放射光照射による石英ガラス膜の改質とその応用」
梅地宏明(神戸大学大学院 M2)、竹沢俊、原口大樹、播磨孝彦、森脇和幸(神戸大学大学院)
神田一浩、松井真二(高度研)、渡辺啓(NTTフォトニクス研究所)
- 12.「N-K 吸収スペクトルにおける全電子収量法および全蛍光収量法での分析深さの評価」
小高拓也(工学研究科 M2)、新部正人(高度研)
- 13.「軟X線吸収法によるスパッタc-BN薄膜の成長過程の観測」
新部正人(高度研)、小高拓也(工学研究科 M2)、堀聡子、井上尚三(工学研究科)
- 14.「軟X線分光によるイオン照射垂直配向高密度多層カーボンナノチューブの構造・電子状態評価」
本多信一、納庄裕介、塚越旭(工学研究科)、寺澤倫孝、新部正人(高度研)
平瀬龍二、吉岡秀樹、泉宏和(兵庫県立工業技術センター)
田口英次(大阪大)、和賀井達也、大浦正樹(理化学研究所)
- 15.「化学気相成長法により作成したフッ素含有自己組織化膜の評価」
春山雄一、岡田真、松井真二(高度研)、石田敬雄(産業技術総合研究所)、小林敬、中川勝(東北大)
- 16.「ナノインプリント離型膜としてのポリジメチルシロキサン薄膜の特性」
岡田真、春山雄一、松井真二(高度研)
- 17.「イオンエッチング後の転写ピラー構造のヤング率の変化」学生ポスター賞
姜有志(物質理学研究科 D2)、岡田真、春山雄一、松井真二(高度研)
- 18.「X線タルボ干渉計用大面積X線格子の作製」
野田大二、徳岡篤、服部正(高度研)
香取めぐみ、南山康人、山下健治、西田諭史((株)ナノクリエート)
- 19.「SiドライエッチングによるX線格子の作製」
野田大二、徳岡篤、服部正(高度研)
- 20.「樹脂成形による静電容量型小型傾斜角センサの作製と評価」
久保山優(工学研究科M2)、野田大二、服部正(高度研)、西田諭史((株)ナノクリエート)
- 21.「近赤外光検出オプトフルイディックデバイスのための金ナノロッドアレイ」
福岡隆夫、内海裕一(高度研)、吉田充宏、高橋亮(工学研究科 M1)、鈴木 基史(京都大学院工学研究科)
- 22.「接触角ヒステリシスに着目した臨床診断デバイス」
福岡隆夫、内海裕一(高度研)、大久保章男((株)アークレイ)、森康維(同志社大学理工学部)
- 23.「アミノ酸誘導体化処理のためのフッ素樹脂製流路チップの作製」
木戸秀樹(工学研究科 M1)、内海裕一(高度研)、三田肇(福岡工業大学工学部)
- 24.「マイクロ流体を用いた前処理チップの作製」学生ポスター賞
能勢博喜(工学研究科M2)、石澤昌樹(工学研究科M1)、内海裕一(高度研)
- 25.「Lab-on-a-CDにおける新規送液法の提案」
石澤昌樹(工学研究科M1)、能勢博喜(工学研究科M2)、内海裕一(高度研)
- 26.「表面増強ラマン散乱のための3次元構造体の作製」
高橋亮(工学研究科 M1)、福岡隆夫、内海裕一(高度研)
- 27.「EUV干渉露光による1X nmパタン創生」
浦山拓郎(工学研究科M2)、中筋正人(工学研究科M2)、原田哲男、渡邊健夫、木下博雄(高度研)
- 28.「高倍率EUV顕微鏡によるEUVマスクの観察」
時政明史(工学研究科M2)、原田哲男、渡邊健夫、木下博雄(高度研)
豊田光紀(東北大学)、山添健二郎(東北大学M2)
- 29.「EUVマスク検査のための高次高調波コヒーレントスキャトロメトリー顕微鏡の開発」
中筋正人(工学研究科M2)、原田哲男、渡邊健夫、木下博雄(高度研)、永田豊、緑川克美(理化学研究所)
- 30.「EUVリソグラフィ向けSi-HMの表面改質」
志垣修平、柴山亘、坂本力丸(日産化学工業(株))
- 31.「EUV用低分子レジストの開発」
塩谷英昭、柏村孝(出光興産(株))、渡邊健夫、木下博雄(高度研)
- 32.「水―オクタノール分配係数とネガ型レジスト感度の相関調査」
落合ゆみ、山川雅子、岡田悠、高須賀大晃、越後雅敏(三菱ガス化学(株))
渡邊健夫、木下博雄(高度研)
- 33.「EUV光に対するレジスト膜の線吸収係数評価」
塩野大寿、大森克実、佐藤和史(東京応化工業株式会社)
原田哲男、渡邊健夫、木下博雄(高度研)、多田将樹(大阪真空)
- 34.「高出力EUV光および電子線を用いたレジストアウトガスの評価」
高橋年哉、杉江紀彦、片山和弘、高木勇、菊池幸子、塩原英志((株)EUVL基盤開発センター)
渡邊健夫、原田哲男、木下博雄(高度研)
- 35.「旭硝子におけるEUVブランクマスクの開発」
岡村有造、林和幸、宇野俊之(旭硝子株式会社)
- 36.「μCSMによる位相欠陥評価(1)」
臼井洋一(EIDEC)、原田哲男、渡邊健夫、木下博雄(高度研)
- 37.「EUVリソグラフィー用ペリクルの開発」
秋山昌次、山田素行、久保田芳宏(信越化学工業(株))
- 38.「MIセンサ作製プロセスに関する検討」
寄玉侑司(工学研究科M2)、内山知美(名古屋大学)、山口明啓(慶応義塾大学)、内海裕一(高度研)
- 39.「弾性表面波デバイスを用いた粉体輸送に関する研究」
有末康人(工学研究科M1)、才木常正(兵庫県立工業技術センター)、内海裕一(高度研)
- 40.「レーザーコンプトンγ線からの対生成高速陽電子を用いた材料評価に関する研究」
堀史説、川端一弘、小野寺直利、石井顕人、岩瀬彰宏(大阪府立大学)
北川靖久、堀川賢、寺澤倫孝、宮本修治(高度研)
- 41.「軟X 線照射による半導体膜の結晶化 ~SiGe 組成比依存性と多層構造の提案~」
木野翔太,野々村勇希, 部家彰,松尾直人(兵庫県立大学工学研究科)
天野壮,宮本修治,神田一浩,望月孝晏(高度研)
都甲薫, 佐道泰造, 宮尾正信(九州大学大学院システム情報科学研究院)
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学生ポスター賞:学生のポスター発表を対象に高度研教員が研究の新規性・有用性、プレゼンの表現力、本人の貢献度等を審査の上、優秀な発表を行った学生2名を選考しました。 詳細は
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